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半导体行业对超纯水水质的标准要求

在半导体加工过程中需要使用水进行处理,该水质的要求非常高,不能含有任何离子杂质。半导体行业用sbf888官网登录采用先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设备的出水水质。半导体sbf888官网登录用水水质标准半导体sbf888官网登录是应用于半导体生产零件清洗的sbf888官网登录,需要符合特定的用水水质标准,下面详细先容半导体行业超纯水水质的标准要求和sbf888官网登录制备工艺及应用:


半导体sbf888官网登录水质标准要求:

半导体sbf888官网登录出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。

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半导体sbf888官网登录制备工艺:

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)


2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)


3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(新工艺)


4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(新工艺)


5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(传统工艺)


半导体sbf888官网登录的应用领域:


电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。


电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。


黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。


生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。


晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。


集成电路生产中高纯水清洗硅片。


半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。


半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。高品质显像管、萤光粉生产。


汽车、家电表面抛光处理。




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